住友的离子注入设备
All-in-one型离子注入设备
Saion
这是一款基于创新理念开发的前沿机型，可实现整合高电流设备和中电流设备的多种类型的离子注入操作。
特点
- 除了300毫米晶圆，还支持200毫米的晶圆，甚至可以扩展至450mm
- HC设备与MC设备一体化的框架结构
- 能量范围 最小：0.2keV / 最大：630keV
- 通过较高的电流值和广泛的能量范围实现的设备本体的高性能
- 可以提升不同生产机型之间的灵活性和设备有效利用率、削减熟练操作工时等，通过机型间的兼容性带来新的价值
- 采用新的搬送系统提高生产效率并减少颗粒
- 采用新角度测量系统，提高射束角度测量的速度和品质
- 可在与晶圆相同的平面上测量射束角度
- RF淋浴系统标准化
- 将金属污染程度降至极低
- 通过对称扫描获得良好的均匀度
- 静电设备主体的节电性能
- 搭载MIND系统
产品系列
All-in-One型离子注入设备
融合了中电流和高电流两种技术，用途灵活的All-in-one型
高能量离子注入设备系列
产品系列包括搭载了支持最大8.0MeV的能量范围的18级RF加速谐振器的“UHE”
中电流离子注入设备系列
通过高精度控制能量、剂量、注入角度等多个参数的“MC3系列”
高电流离子注入设备系列
极低能量、高电流下的射束品质出色的高电流设备全球标准